Planzeichen-Linienmuster können nachträglich über Grafische Eigenschaften editiert werden. 


Neu ist die Option zur Sequentiellen Musterung.


  • Sequentielles Muster – Diese Option bewirkt eine Stauchung oder Dehnung der Blöcke eines Linienmusters auf einer Polyliniensequenz. Es kommt auf sehr kurvigen oder kurzen Segmenten zum Tragen, kann aber vor allem auch durch Anpassung des X-Faktors eines Blocks die Anzahl der Objekte auf einer Geraden besser mitteln, sodass weniger unbefüllte Reste am Start- und Endpunkt einer Sequenz verbleiben. Mit Ja ist die Option aktiv, mit Nein inaktiv.



  • Skalierung der minimalen Blockbreite – Über die minimale Blockbreite kann dem sequentiell editierten Block ein Faktor zugewiesen werden, unterhalb dessen der Algorithmus der Funktion den X-Faktor des Blockes nicht stauchen soll. 
  • Skalierung der maximalen Blockbreite – Über die maximale Blockbreite kann dem sequentiell editierten Block ein Faktor zugewiesen werden, oberhalb dessen der Algorithmus der Funktion den X-Faktor des Blockes nicht strecken soll. 




Hinweis: Verbleibt die Skalierung der minimalen und maximalen Blockbreite jeweils bei 1.0, ändert sich am Ausgangszustand des Musters nichts. Mindestens ein Wert muss angepasst werden. Werte unterhalb von 0.75 sowie oberhalb 1.25 sind eher nicht zielführend, da sie optisch zu einer zu starken Verzerrung führen. Der Faktor Y wird von der Funktion nicht verändert.


Die Option der sequentiellen Musterung wurde insbesondere zur Verbesserung der Wellengrafik der Fläche für die Wasserwirtschaft entwickelt.